OffenAusschreibungLieferauftrag🇪🇺 EU-FörderungTED 92/2026

Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System)

Veröffentlichung (ABl.)

12.05.2026

Einreichungsfrist

17.06.2026

Verfahrensart

Offenes Verfahren

Sitz des Auftraggebers

Waldheim (04736) — DED43

Beschreibung

Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System)

CPV-Codes

31712100

Lose (1)

LOT-0001Lieferung, Installierung und Inbetriebnahme einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-beam-System).

Der Auftragnehmer liefert, installiert und übergibt dem Auftraggeber ein definiertes Elektronenstrahl-Lithografiesystem zur hochauflösenden Strukturierung von Mikro- und Nanostrukturen. Eine genaue Beschreibung ist dem Leistungsverzeichnis zu entnehmen.

317121002026-05-122026-12-21

Zuschlagskriterien

Die Vorgaben sind im Leistungsverzeichnis enthalten.