● OffenAusschreibungLieferauftrag🇪🇺 EU-FörderungTED 92/2026
Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System)
Veröffentlichung (ABl.)
12.05.2026
Einreichungsfrist
17.06.2026
Verfahrensart
Offenes Verfahren
Sitz des Auftraggebers
Waldheim (04736) — DED43
Sektor
Beschreibung
Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System)
CPV-Codes
31712100
Lose (1)
LOT-0001Lieferung, Installierung und Inbetriebnahme einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-beam-System).
Der Auftragnehmer liefert, installiert und übergibt dem Auftraggeber ein definiertes Elektronenstrahl-Lithografiesystem zur hochauflösenden Strukturierung von Mikro- und Nanostrukturen. Eine genaue Beschreibung ist dem Leistungsverzeichnis zu entnehmen.
317121002026-05-12 → 2026-12-21
Zuschlagskriterien
Die Vorgaben sind im Leistungsverzeichnis enthalten.